Sistema PECVD de três zonas de aquecimento 1200C
Sistema PECVD de três zonas de aquecimento 1200C

Sistema PECVD de três zonas de aquecimento 1200C

SK2-CVD-12TPB4 é um forno tubular para sistema PECVD, consistindo de fonte de alimentação RF de 300 W ou 500 W, sistema de fluxo de precisão multicanal, sistema de vácuo e forno tubular. A temperatura comumente usada é de 1100 graus Celsius ou menos, e suas principais características são baixa temperatura de deposição, taxa rápida, boa qualidade de filme, menos furos e menos propenso a rachaduras. Um dispositivo ideal para o crescimento de nanofios ou preparação de vários filmes finos usando o método CVD.
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Recurso

 

● Temperatura máxima RT-1200 grau

● Forno tipo split, você pode abrir o forno.

● Pode introduzir mais de 2 canais de gás, com um grau de vácuo de 10 Pa, usando uma bomba mecânica e uma fonte de alimentação RF de 500 W para melhorar o sinal.

● Materiais de isolamento de fibra cerâmica de alumina de alto desempenho e qualidade

● Precisão do controle de temperatura ±1 grau

● Com função de alarme de temperatura excessiva

● O ventilador de resfriamento pode reduzir a temperatura do invólucro

 

Modelo

SK2-CVD-12TPB4

Dimensões: Comprimento da zona de aquecimento padrão (mm)

440 mm

Dimensões: Diâmetro do tubo padrão (mm)

∮60mm

Temperatura máx.

1200 graus, temperatura de trabalho contínua 1100 graus.

Voltagem (V)

220 1P

Tipo de termopar

K

Elemento de aquecimento

Fio de resistência de liga HRE

Temp.Precisão

±1 grau

Taxa de aquecimento

Ajuste livre de 0-30 graus/min

Material da câmara

Usando material avançado de fibra microcristalina de alumina de alta qualidade

Estrutura do forno

Estrutura refrigerada a ar de camada dupla, temperatura da superfície inferior a 60 graus

Controlador de temperatura

Instrumento de controle de temperatura PID inteligente, 30 segmentos de programa, controle SSR, função de autoajuste de parâmetro PID; aumento de temperatura do programa, preservação de calor do programa, resfriamento do programa

Fonte de alimentação RF de 500 W

Potência de saída: 5-500W ±1 grau

Frequência de RF: 13,56 MHz ±0.005%

Potência refletida: até 100 W

Partida: Automática

Interface RF: 50Ω, tipo N

Resfriamento: resfriamento a ar

Fonte de alimentação: CA 208-240V, 50/60HZ

Sistema de fluxo de precisão de 4 canais de gás

1. Taxa de fluxo em escala total (5, 10, 30, 50, 100, 200, 300, 500) ML/min. 10 L/min.

2. Tipo de válvula: Válvula Solenold.

3. Posição de repouso da válvula: Normalmente fechada.

4. Pressão diferencial: (50-300)kpa

5. Resistência à pressão: 3mpa.

6. Temperatura de operação: 5-45 grau

7. Materiais: aço inoxidável 316L.

Sistema de vácuo

5*10-3Pa

KF25 conexão rápida, fole de aço inoxidável, válvula de descarga manual e flange, bomba de vácuo

Sistemas de vácuo mais alto também podem ser equipados opcionalmente.

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BEM-VINDO OEM/ODM

 

Acessórios padrão

 

Luvas térmicas|Gancho de cadinho|Termopar|Bloco de tubos|Manual do usuário|Ferramentas|Bomba de vácuo|Tubo de quartzo|Flange|Anel de vedação|Mangueira de gás de 10 mm|Suporte de flange, Sistema de gás, Potência de RF.

 

Opcional

 

Diferentes zonas de aquecimento para sua escolha;

Controle de tela de toque LCD para escolher

Porta RS485/USB para conectar o computador para escolher.

 

Imagem detalhada para CVD-PECVD

 

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Fonte de alimentação RF de 500 W
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Sistema de vácuo
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Sistema de fluxo de precisão de 4 canais de gás

 

Aplicativo

 

Este dispositivo é usado principalmente para o crescimento de nanofios ou para preparar vários crescimentos de filmes finos usando o método CVD.

 

garantia

 

Garantia de um ano e suporte técnico vitalício

Dicas especiais:

1. Consumíveis como elemento de aquecimento, tubo de quartzo, cadinho de amostra, etc. não estão dentro do período de garantia.

2. Danos causados ​​pelo uso de gás corrosivo e gás ácido não são cobertos pela garantia.

 

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